非球面光学元件具有更大的自由度和灵活性，广泛应用在航空航天、微电子装备、光学精密测量、激光光学等诸多领域。光学元件表面缺陷将影响光学系统性能，而表面缺陷控制需要相应检测手段，高分辨率、高精度、高效率光学表面缺陷检测仍存在技术挑战。文中综述了光学元件表面缺陷类别、评价标准及检测方法，重点探讨了非球面光学元件表面缺陷检测技术及其应用范围，分析比较了各种方法的优缺点，最后对表面缺陷检测技术发展趋势进行了展望。

深紫外光刻、极紫外光刻和先进光源等现代光学工程需求牵引先进光学制造技术持续发展，要求超光滑光学元件表面粗糙度达到原子级水平以及表面全频段面形误差达到RMS(Root Mean Square)亚纳米量级甚至几十皮米，推动超光滑光学元件制造要求不断逼近物理极限。目前，对于如何实现上述超高精度要求的超光滑加工技术及装备仍然存在技术挑战。尤其对如何实现柱面，椭球面，超环面等复杂曲面的原子量级超光滑加工仍是国内外前沿研究方向。弹性发射加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的问题，展望了未来的发展方向，期望为弹性发射加工技术进一步发展和应用提供一定的参考。

以新一代同步辐射光源和全相干X射线自由电子激光为代表的先进光源已成为众多学科领域中一种不可或缺的研究工具。先进光源技术不断进步，驱动超精密光学制造快速发展，先进光源中关键聚焦光学元件K-B镜的面形精度是影响光源性能的重要指标，要求其在几十纳弧度以下。然而，高精度K-B镜面形检测技术依然存在较大技术挑战，一直是国内外研究热点。本文介绍了反射式轮廓测量技术即长程轮廓仪（LTP）、纳米测量仪（NOM）以及拼接干涉检测技术等典型K-B镜面形检测技术的基本原理，对比分析了其技术特点，综述了国内外K-B镜面形检测技术的研究现状和最新进展，对发展趋势进行了展望。